?新一代紫外波长：172 nm
?光源技术：平面微腔阵列发光
?输出强度: >10mW/cm2
?光刻分辨率：<0.5μm，典型可达0.35μm
?无需光刻胶，有机聚合物直接曝光
?无需超净间，无需预热，无需冷却，无需复杂培训，几乎"零"维护
?杰出的光束均匀度：可用光圈的3％
?寿命长：3000小时曝光，曝光高达60000次(3分钟/次), 使用可达10年
?绿色技术：无汞等有毒易燃气体和物质； 高电-光转换率，节能省电；
?小巧，方便，可放入手套箱

高功率平面真空172 nm 紫外线 —在光处理中更多应用

采用特有的172nm波长，光源技术兼具高功率，以及超乎寻常的均匀性和多功能性，高效能且紧凑的模块化设计。这些革命性的实现都由π2-CYGNI系列真空紫外光处理系统开始。

172纳米全新光处理体系

传统172nm光源的低输出功率阻碍了该波长在研究和生产中的广泛应用。π2-CYGNI 克服了这一障碍，并展示了172 nm的真正实力-全新化学驱动，反应方式和处理技术。

全新功率驱动

紫外线弧光灯能提供高平均功率， 准分子紫外线源提供高光子通量。π2-CYGNI 提供高平均功率和高光子通量- 无需有源或外部冷却。 把高功率和高光子通量这种独特组合，封装在手掌大的盒子中，实现其他光源不易完成的大面积反应和处理。

全新发光技术

每套 π2-CYGNI系统的核心是它超薄的(< 4mm)平面微腔光源。与传统的弧光放电灯相比，这种广域照射产生了卓越的均匀性，同时又消除了对复杂聚光、准直和均化等光学器件的要求，使设备更加小巧，在一般实验室的适应成为可能。

全新光刻工艺--无需昂贵的光刻胶、无需显影

π2-CYGNI消除了对特定光刻胶的需求，由于172nm光具有高能量（每光子7 . 2eV），现在可以将有机聚合物用作光刻胶！由于有机膜质量减少，在曝光期间产生图像，因此消除了对单独显影步骤的需要，也避免光刻胶经显影后不易剥离(liftofff)的难题。